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产品包括3nm PTFE膜高精度气体过滤器,1.5nm SUS316L膜高精度气体过滤器和扩散器;公司产品还包括在半导体CMP工艺、化学湿法清洗工艺、电镀工艺、湿法腐蚀以及光刻工艺上用的高精度过滤器;公司还为浸没式光刻机提供POU超纯水系统。